材料科学家发展了一类新的深紫外非线性光学晶体材料，这类材料不含有剧毒的铍元素，并且具有更好的综合性能(Angew. Chem. Int. Ed. 2017, DOI: 10.1002/anie.201700540)。深紫外非线性光学材料被广泛的用在半导体工业，是拓展固体激光器输出频率的关键材料。KBBF (KBe₂BO₃F₂)晶体是目前唯一能实际用于产生波长小于200nm的激光材料。但是KBBF含有铍元素且具有层状生长习性，这阻碍了它的应用。研究者竞相寻找可以替代KBBF的材料。

    目前，一支由中国科学院新疆理化技术研究所副所长潘世烈研究员领导的团队（http://www.oefm.cn）提出了通过引入(BO₃F)^4-、(BO₂F₂)^3-和(BOF₃)^2-基团三维硼-氧基团的设计策略。详细研究了一类氟硼酸盐非线性光学晶体，这类材料不含铍元素并且避免了端氧原子的形成，可以避免层状习性的同时获得较大的双折射。研究者发现，Li₂B₆O₉F₂是一例有潜力打破深紫外墙的非线性光学材料。 

　　转载于：http://pubs.acs.org/doi/10.1021/cen-09511-scicon003 

　　原作者：Elizabeth Wilson        

美国新闻周刊C&EN报道