题一目：原子层沉积与金属催化剂落位调控

时一间：5月27日（星期五）10:00（线上会议）

地一点：中科院新疆理化所4号楼8楼会议室

报告摘要：

80%以上的现代化学工业过程使用工业催化剂。发展高性能催化剂是实现绿色、高效和低碳化工过程的关键。其中，活性组分的表界面结构和多级结构决定催化剂的性能。近十多年来，团队聚焦于面相高性能催化剂设计的原子层沉积技术（atomic layer deposition, ALD）的研发，发展出ALD新装备和多种催化剂表界面结构调控的普适性设计策略。运用相关策略，在原子级精准调控金属活性组分落位领域取得以下进展：1）梯度调控介孔孔口尺寸或者构筑类分子筛膜，精准控制金属配合物落位实现封装，解决其重复使用难题。2）设计原子层沉积装置和发展选择性沉积技术，精准控制金属在微孔、介孔或纳米管表面落位，揭示金属落位调控加氢、芳构化和氧化性能机制。3）通过控制沉积物生长位置，合成空间分离双金属催化剂，揭示串联催化多界面协同和亚纳米间距效应。

报告人简介：

张斌，男，中科院山西煤炭化学研究所，副研究员，课题组副组长，中科院青促会优秀会员，化材分会秘书长，山西省三晋英才。2008年于陕西师范大学获得理学学士学位，2013年在中国科学院山西煤炭化学究所和中科院大学获得工学博士学位，同年留所工作。目前主要从事原子层沉积技术(ALD)及能源分子和精细化学品的串联转化研究。近年来，针对负载型金属催化剂表界面调控关键科学问题，以炔烃、CO2、酮等分子的定向转化为切入点，实现了原子级催化剂孔道结构、金属落位、金属-氧化物界面及间距的精准调控，获得了高效的封装、界面和串联催化体系。开发建设出面向工业应用的旋转原子层沉积装置，以及面向原位机理研究的ALD-FTIR-MS联用系统。研究成果在The Innovation、Angew. Chem. Int. Ed.、ACS Catal.、J. Catal.、Appl. Catal. B、Chem Catal.、Sci. China Chem.、Green Chem.、Chem Commun.等期刊发表研究论文50多篇，获授权专利6件。主持国家自然科学基金面上项目、青年基金、中国科学院青年创新促进会优秀会员、山西省优秀青年基金、山西省重大专项子课题、煤转化国家重点实验室“青年人才培养项目”等多项；作为骨干参与国家重点研发计划、基金委联合基金重点项目等。