赛默飞K-Alpha+型X射线光电子能谱仪
仪器名称:X射线光电子能谱仪
仪器型号:K-Alpha+
生产厂家:美国赛默飞世尔公司
仪器简介:
X射线光电子能谱仪(XPS)是较常用的表面分析技术之一,它不仅能测定材料表面的组成元素,而且还能给出各元素的化学态信息;X射线光电子能谱仪(XPS)谱图数据可对样品进行定性分析,得到有关组分,也可分别对各元素进行化学态、原子分子的化学结构、化学键结合情况分析。是一种用途广泛的分析实验技术和表面分析的有力工具,可应用于固体物理学、化学、生物、地学、矿物学、材料学、半导体、陶瓷、高分子等诸多领域中。可开展表面成分、价态分析;剖层分布分析;面分布分析;表面能带电子结构分析;超薄膜厚度成分分析。该仪器可获取0-10 nm深度的信息。
主要参数:
分析器——180°双聚集半球分析器-128通道检测器
X射线源——铝Ka微聚集单色器-可获取的光斑大小(5微米步长30至400微米);最小聚焦束斑不大于30 μm;最大功率:72 W (400 μm X-ray spot) ;能量分辨率0.5 eV。
离子枪——能量范围100至4000 eV
电荷中和——又束流-超低能量电子束;中和枪能量分辨率:0.82 eV;灵敏度:分辨率为1.0 eV时信号强度不低于2000 kcps。
样品安装——四轴样品台-60 x 60毫米样品区域,最大样品厚度20毫米
真空系统——2个220 l/s涡轮分子泵用于进样室和分析室–自动开机,3灯丝TSP
数据系统——Avantage数据系统–过程许可–计算机
其它说明:
1.原则上可对除H,He之外的元素进行分析,但小于1%的元素可能测不出明显信号;
2.适用于任何固体样品,其中块体材料样品尺寸最大高度不大于XXmm;
3.可进行俄歇谱、价带谱分析和刻蚀分析,刻蚀一般在5 nm以内;
4.含铁钴锰镍元素的定性为磁性样品,样品含S,F等元素或其他特殊需求需要咨询交流;
5.孔洞丰富或比表面积大的块体材料需尽量切割为毫米级样品,以免长时间脱气。
6.准备待测样品时应充分清洗并干燥(耐高温的样品应当在耐受温度下充分热脱附,如要了解样品的污染情况,不要进行清洗和热脱附)、此外应当避免裸手接触或长时间放置,并用洁净的样品管/瓶/袋盛装,以避免收到其它因素的污染或干扰。